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       與形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入相關(guān)01

 

       在科創(chuàng )屬性的要求上，不管是3項常規指標的必要條件之一形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專(zhuān)利 5 項以上，還是5項例外條款中的充分必要條件之一形成核心技術(shù)和主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專(zhuān)利（含國防專(zhuān)利）合計50 項以上，都明確指出這些專(zhuān)利要與形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入直接相關(guān)。因此，科創(chuàng )板上市對于專(zhuān)利質(zhì)量的第一個(gè)要求就是與形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入相關(guān)，簡(jiǎn)稱(chēng)相關(guān)性。

 

       相關(guān)性意味著(zhù)企業(yè)發(fā)明專(zhuān)利的保護內容與形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的產(chǎn)品和核心技術(shù)相對應，不僅僅是發(fā)明名稱(chēng)與企業(yè)的主營(yíng)產(chǎn)品和技術(shù)一致，還要發(fā)明保護的技術(shù)方案真正應用到了主營(yíng)產(chǎn)品和技術(shù)中，產(chǎn)生了實(shí)際的技術(shù)效果，并帶來(lái)了主要營(yíng)收中的利潤。如果企業(yè)所擁有的發(fā)明專(zhuān)利與主營(yíng)業(yè)務(wù)或核心技術(shù)非直接相關(guān)，或者雖直接相關(guān)但沒(méi)有形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入那么將都不被認可。

 

       福建匯川物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)科技股份有限公司形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專(zhuān)利共 11 項，3 項為自主研發(fā)，而8 項都為 2019 年 12 月受讓取得?？苿?chuàng )板審核中心第二輪問(wèn)詢(xún)意見(jiàn)要求發(fā)行人及保薦機構結合高精度俯仰伺服控制云臺技術(shù)的開(kāi)發(fā)過(guò)程、形成時(shí)間、應用于產(chǎn)品的時(shí)間、對應專(zhuān)利名稱(chēng)、申請時(shí)間等，說(shuō)明外購專(zhuān)利對應的核心技術(shù)對公司產(chǎn)品功能的具體體現，與公司業(yè)務(wù)的相關(guān)性，是否符合《科創(chuàng )屬性評價(jià)指引（試行）》關(guān)于“形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專(zhuān)利 5 項以上”的規定。最終，上交所發(fā)出了終止該公司首次公開(kāi)發(fā)行股票并在科創(chuàng )板上市審核的決定。

 

       技術(shù)先進(jìn)性02

 

       科創(chuàng )板上市對專(zhuān)利的技術(shù)先進(jìn)性評價(jià)十分嚴謹甚至是“苛刻”，不僅要考慮該專(zhuān)利相對于行業(yè)同類(lèi)技術(shù)水平的技術(shù)優(yōu)勢、對本企業(yè)主營(yíng)業(yè)務(wù)直接做出的技術(shù)貢獻，還要結合技術(shù)是否為自主研發(fā)、是否具備核心研發(fā)團隊等來(lái)考慮?？苿?chuàng )上市的評價(jià)更傾向于鼓勵自主研發(fā)取得的原創(chuàng )性知識產(chǎn)權，這源于科創(chuàng )板定位旨在借助資本市場(chǎng)扶持擁有關(guān)鍵核心技術(shù)、科技創(chuàng )新能力突出的科技創(chuàng )新企業(yè)發(fā)行上市。

 

       企業(yè)應當跟蹤國內外前沿和重點(diǎn)技術(shù)發(fā)展趨勢，對本領(lǐng)域關(guān)鍵核心技術(shù)和主流技術(shù)進(jìn)行深入跟蹤研究，合理確定適合自身的技術(shù)創(chuàng )新方向，保障自身技術(shù)研發(fā)路線(xiàn)的先進(jìn)性、可行性和前瞻性。此外，還要積極參與國家倡導和組織的關(guān)鍵共性技術(shù)開(kāi)發(fā)和研究項目，圍繞關(guān)鍵核心技術(shù)、共性技術(shù)進(jìn)行積累、儲備和戰略布局高質(zhì)量的發(fā)明專(zhuān)利。

 

       權利穩定性03

 

       專(zhuān)利的權利穩定性對于實(shí)施該專(zhuān)利技術(shù)、利用該專(zhuān)利技術(shù)進(jìn)行維權至關(guān)重要。專(zhuān)利權的穩定一方面要做好授權專(zhuān)利的維護，二是要重視技術(shù)交底書(shū)的撰寫(xiě)和審查意見(jiàn)的答復，保證授權后的專(zhuān)利文本不存在可能被無(wú)效的“瑕疵”。

 

       企業(yè)在科創(chuàng )板上市過(guò)程中，經(jīng)常面臨競爭對手的專(zhuān)利無(wú)效攻勢，如果自身專(zhuān)利的權利穩定性不過(guò)硬，很容易被無(wú)效掉，不僅可能無(wú)法滿(mǎn)足發(fā)明專(zhuān)利數量要求，還可能會(huì )被認為技術(shù)創(chuàng )新性不夠、無(wú)法支撐主營(yíng)業(yè)務(wù)等問(wèn)題而終止上市。

 

       秦川物聯(lián)共申請了多達 700項專(zhuān)利，但其中僅有不到300項取得授權，授權率不到 40%。此外，還有大量專(zhuān)利申請被撤回、或被視為非正常專(zhuān)利申請、或被宣告無(wú)效，上交所因此對該企業(yè)的知識產(chǎn)權質(zhì)量提出了質(zhì)疑，最終該企業(yè)折戟科創(chuàng )板。

 

       北京天科合達半導體股份有限公司上市申請過(guò)程中，其3項發(fā)明專(zhuān)利因未按期繳納年費而失效。這一情況引發(fā)了上交所對天科合達的持續經(jīng)營(yíng)能力、專(zhuān)利管理制度的健全程度以及是否存在其他類(lèi)似專(zhuān)利失效風(fēng)險的質(zhì)疑。該公司最終于2020年10月15日申請撤回上市申請，終止了本次上市之路。

 

       專(zhuān)利技術(shù)能夠自由實(shí)施04

 

       專(zhuān)利技術(shù)能否自由實(shí)施，通常要看技術(shù)研發(fā)屬于原創(chuàng )性還是改進(jìn)型，其專(zhuān)利來(lái)源是他人許可轉讓還是獨立取得，是否依賴(lài)他人。如果專(zhuān)利屬于獨立研發(fā)所得，不存在他人在先專(zhuān)利的限制，可以保證企業(yè)的獨立經(jīng)營(yíng)。如果專(zhuān)利技術(shù)是針對他人專(zhuān)利技術(shù)的改進(jìn)，需要判斷實(shí)施是否依賴(lài)于在先專(zhuān)利申請，如果依賴(lài)，是否獲得了他人專(zhuān)利的轉讓或者許可。如果專(zhuān)利技術(shù)為合作研發(fā)所得，專(zhuān)利的權屬是否清晰等。

 

       如果存在早期的他人專(zhuān)利而且沒(méi)有獲得技術(shù)實(shí)施許可，則需要研發(fā)新的技術(shù)或者進(jìn)行技術(shù)規避設計，并對自身產(chǎn)品或技術(shù)與他人在先專(zhuān)利進(jìn)行通過(guò)技術(shù)特征比對等手段提前準備不侵權的證據。

 

       關(guān)鍵技術(shù)控制力05

 

       具有高質(zhì)量的知識產(chǎn)權和戰略性的知識產(chǎn)權布局，是企業(yè)擁有并控制關(guān)鍵核心技術(shù)的基礎，是企業(yè)核心競爭力的保障。專(zhuān)利是對核心技術(shù)的法律保障，但通常一件專(zhuān)利很難對核心技術(shù)周?chē)赖谋Ｗo，甚至對具體產(chǎn)品的某一核心零部件都需要多件專(zhuān)利的立體保護。通常應當申請一件或者多件核心專(zhuān)利，然后申請多件外圍專(zhuān)利以建立專(zhuān)利“圍墻”，全面保護自己的核心技術(shù)和產(chǎn)品。

 

       技術(shù)控制力好的專(zhuān)利組合被侵權時(shí)，很容易進(jìn)行侵權判定，能夠方便專(zhuān)利權人的搜集被侵權證據。技術(shù)控制力好的專(zhuān)利組合能夠有效保證產(chǎn)業(yè)鏈上下游的市場(chǎng)安全，促成緊密的產(chǎn)業(yè)鏈合作環(huán)境。

 

       安集微電子主營(yíng)業(yè)務(wù)為關(guān)鍵半導體材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，目前產(chǎn)品包括不同系列的化學(xué)機械拋光液和光刻膠去除劑，主要應用于集成電路芯片制造和先進(jìn)封裝領(lǐng)域。

 

       通過(guò)對安集微電子的專(zhuān)利申請趨勢分析可以看出，其在2005年就開(kāi)始申請專(zhuān)利，最早的申請至今維持年限已有14年；在拋光劑和光刻膠去除劑兩個(gè)技術(shù)領(lǐng)域，全球申請人排名依次為卡伯特微電子公司、安集微電子有限公司、三星電子、巴斯夫、海力士半導體公司，可見(jiàn)安集微電子在全球中的地位靠前。安集微電子有限公司在中國大陸的申請量也穩居第一。每年都有20項左右的專(zhuān)利申請，持續研發(fā)能力較好；披露的190件專(zhuān)利均為發(fā)明專(zhuān)利，相對來(lái)講創(chuàng )新性較高，且主要為發(fā)行人自主持有，有少數控股公司的內部轉讓?zhuān)灾餮邪l(fā)能力強。

 

       安集微電子有超過(guò)三成的專(zhuān)利布局到我國臺灣地區以及美國、新加坡、韓國等國家和地區，這與其產(chǎn)品市場(chǎng)地、主營(yíng)業(yè)務(wù)收入等息息相關(guān)。

 

       安集微電子專(zhuān)利被引證1-9次的專(zhuān)利項數63項；被引證次數11-20次的專(zhuān)利項數為9項；被引證次數20項以上的專(zhuān)利5項，表明專(zhuān)利整體質(zhì)量較高，得到了行業(yè)的廣泛認可。

 

       一般來(lái)說(shuō)，專(zhuān)利的權利要求數量越多表明專(zhuān)利的質(zhì)量和穩定性越高。據統計，安集微電子的專(zhuān)利的平均權利要求數為10.8，超過(guò)了國內專(zhuān)利申請額外收取費用的限定值10，反映了專(zhuān)利的整體質(zhì)量較高。    安集微電子核心技術(shù)涉及化學(xué)機械拋光液的核心技術(shù)有五項：金屬表面氧化技術(shù)、金屬表面腐蝕抑制技術(shù)、拋光速率調節技術(shù)、拋光晶圓表面形貌控制技術(shù)和拋光后表面清洗技術(shù)；涉及光刻膠的核心技術(shù)有兩項：光阻清洗中金屬防腐蝕技術(shù)和光刻膠殘留物去除技術(shù)。針對每項核心技術(shù)，安集微電子都布局了多項專(zhuān)利，技術(shù)控制力較強。